
國際學(xué)術(shù)期刊《Nano Letters》(ACS 旗下納米科技期刊《納米快報》)在線發(fā)表了關(guān)于COT(晶體軸對齊氧插值晶體管)的突破性研究成果。該研究創(chuàng)新性地在單一器件中集成偏振傳感、光電流存儲與光電邏輯功能,為下一代高速低功耗傳感 - 存儲 - 計算一體化系統(tǒng)提供了全新技術(shù)路徑。

在這項科研工作中,客戶團隊選用了CIF公司提供的旋涂設(shè)備SC1,為實驗樣品的制備提供了關(guān)鍵技術(shù)支持!

在智能傳感、自動駕駛等數(shù)據(jù)密集型應(yīng)用中,傳統(tǒng)系統(tǒng)依賴物理分離的傳感、存儲與計算單元,海量原始數(shù)據(jù)的跨單元傳輸導(dǎo)致 latency、帶寬和功耗居高不下。雖有近傳感計算、存內(nèi)計算等 “二合一” 架構(gòu)問世,但多依賴異質(zhì)集成技術(shù),受限于材料體系、器件結(jié)構(gòu)差異,難以實現(xiàn)高密度兼容集成。開發(fā)單一物理單元內(nèi)嵌多功能的器件,成為突破傳統(tǒng)架構(gòu)瓶頸的關(guān)鍵方向。
針對二維材料異質(zhì)結(jié)器件制備的嚴苛工藝要求,CIF公司的旋涂設(shè)備發(fā)揮了不可替代的支撐作用,為器件核心結(jié)構(gòu)制備保駕護航:
1.高精度旋涂,筑牢結(jié)構(gòu)基礎(chǔ):精準控制 PdSe?接觸層、ReS?溝道層及氧插層等關(guān)鍵薄膜制備,確保各層厚度均勻、表面平整,為原子級潔凈范德華界面和晶體軸精準取向堆疊提供工藝保障。
2.穩(wěn)定適配,提升制備成功率:憑借優(yōu)異的運行穩(wěn)定性和參數(shù)可調(diào)性,匹配二維各向異性材料制備需求,減少工藝波動引發(fā)的薄膜缺陷,保障氧插層均勻受限分布,夯實電荷捕獲存儲功能的結(jié)構(gòu)基礎(chǔ)。
3.兼容集成,貼合產(chǎn)業(yè)化趨勢:設(shè)備工藝與器件集成流程高度適配,契合 “單一器件多功能” 架構(gòu)理念,為技術(shù)從實驗室走向規(guī)?;瘧?yīng)用提供工藝可行性支撐。
研究團隊成功研發(fā)COT(晶體軸對齊氧插值晶體管),核心成果如下:采用 PdSe?與ReS?晶體軸對齊堆疊及范德華接觸,實現(xiàn)8.4高偏振比,響應(yīng)度達5.2×10? A?W?1、比探測率達 7.8×101? cm?Hz1/2?W?1,性能遠超傳統(tǒng)探測器;引入 2.5 nm 氧插層,實現(xiàn)33個線性存儲態(tài),數(shù)據(jù)保持時間達 6×10? s( extrapolate 后可達 10 年),18個月環(huán)境存儲性能穩(wěn)定;基于高偏振敏感性,以偏振光為輸入實現(xiàn)波長可調(diào)可重構(gòu)光電邏輯門(914 nm下AND邏輯、375nm下OR邏輯),單操作能耗低至 0.5-5 pJ;器件集成傳感、存儲、計算功能,為高密度一體化芯片研發(fā)提供通用框架。

圖1. COT器件的結(jié)構(gòu)與表征。(a) 器件制備流程示意圖。采用各向異性PdSe?(準金屬性,禁帶寬度≈0.16 eV)作為源/漏電極,各向異性ReS?(半導(dǎo)體性,禁帶寬度≈1.5 eV)作為溝道。氧分子預(yù)吸附于ReS?表面并在堆疊過程中被限制,形成界面O?層。PdSe??ReS?沿晶體軸(b軸)對齊堆疊以實現(xiàn)高偏振比;范德華接觸確保了器件的高性能;限域O?層作為電荷捕獲層實現(xiàn)存儲功能。(b) PdSe?/ReS?/O?結(jié)構(gòu)的橫截面原子分辨率圖像,可觀察到厚度約2.5 nm的O?插層。(c) PdSe??ReS?接觸區(qū)放大圖像,呈現(xiàn)潔凈的范德華界面。元素分布圖證實了其組成與分布。(d) COT器件的光學(xué)圖像。由于本征各向異性解理特性,PdSe?和ReS?均呈現(xiàn)條狀形貌,且其堆疊沿b軸精確排列。(e) COT器件在不同工作模式(傳感、存儲、邏輯)下的示意性能帶圖。

圖2. 光響應(yīng)與存儲性能。(a) 暗態(tài)及不同功率激光照射下COT器件的轉(zhuǎn)移特性曲線(Ids?Vgs)。(b) 響應(yīng)度R隨柵壓Vgs和入射光功率Plight的變化關(guān)系,最大值達5×10? A/W。(c) 下圖左軸:不同柵壓下測得的噪聲電流;上圖右軸:計算得到的比探測率D*,高達7.8 × 101? cm Hz1/2W?1。(d) 線偏振光寫入(LP-writing)和圓偏振光擦除(GP-erasing)操作下的Ids?Vgs特性曲線。(e) 光電流的長期保持特性,測試期間包含全斷電間隔。插圖為外推的保持時間,表明10年后仍有約60%的光電流留存。(f) 線偏振光寫入與圓偏振光擦除的可重復(fù)循環(huán)操作。(g) 多級存儲特性。此處共獲得33個分立的存儲態(tài),讀出電流均勻遞增。插圖為線性動態(tài)響應(yīng)(斜率7.78 nC/態(tài)),證實了高度線性的多級存儲行為。(h) 長期穩(wěn)定性,在環(huán)境存儲18個月后性能保持穩(wěn)定。

圖3. 晶體軸對齊與偏振分辨光響應(yīng)。上圖:PdSe? (a)、ReS? (b)及其對齊異質(zhì)結(jié)構(gòu)(c)的原子結(jié)構(gòu)及相應(yīng)晶軸示意圖。下圖:PdSe?、ReS?及其對齊異質(zhì)結(jié)構(gòu)的角度依賴拉曼光譜圖。各單層中觀測到的拉曼增強峰在PdSe?/ReS?結(jié)構(gòu)中同樣出現(xiàn),證實了晶體軸對齊操作的成功。(d) 提取的偏振比隨PdSe?/ReS?異質(zhì)結(jié)中相對b軸夾角(α)的變化關(guān)系。僅當(dāng)兩者的b軸平行時(α = 180°)偏振比達到大,凸顯了晶體軸對齊的重要性。(e) 660 nm激光不同偏振態(tài)照射下器件的讀出電流與存儲特性。(f) 不同波長(375, 532, 808, 914 nm)下偏振依賴光電流隨入射角的變化。(g) 偏振依賴光電流的3D統(tǒng)計圖,展示了COT器件的寬帶偏振分辨能力。V1?V4代表PdSe?的主要拉曼峰;N1?N4代表ReS?的主要拉曼峰。

圖4. 基于COT器件的可重構(gòu)光電邏輯門。(a) 單器件邏輯門結(jié)構(gòu)示意圖,其中兩束偏振方向垂直(⊥,邏輯“0”)和平行(∥,邏輯“1”)的偏振光作為邏輯輸入(p, q),源漏電流(S)作為邏輯輸出。(b) 可重構(gòu)邏輯門的工作原理示意圖。通過使用不同波長的偏振光實現(xiàn)了可重構(gòu)的光電邏輯門:914 nm光實現(xiàn)AND功能,375 nm光實現(xiàn)OR功能。此處,每次邏輯操作前均施加80 V的復(fù)位柵壓脈沖。(c) 914 nm垂直與平行偏振光照射下的AND邏輯操作演示,以Ids作為邏輯輸出,Vgs作為存儲復(fù)位控制端。采用0.225 nA的閾值電流(Ith)區(qū)分邏輯狀態(tài)“0”和“1”。(d) 375 nm垂直與平行偏振光照射下的OR邏輯操作演示,以Ids作為邏輯輸出,采用1.25 μA的閾值電流(Ith)區(qū)分邏輯狀態(tài)“0”和“1”。每次邏輯操作前均施加80 V的復(fù)位柵壓脈沖。波長依賴的可重構(gòu)邏輯門源于COT器件的波長依賴光電流特性。
此次客戶團隊的研究成果榮登國際期刊,是二維材料多功能器件領(lǐng)域的重要突破。
未來,CIF將持續(xù)深耕實驗設(shè)備研發(fā),不斷適配前沿技術(shù)發(fā)展需求,與科研工作者攜手,在智能傳感、半導(dǎo)體集成等領(lǐng)域探索更多可能,助力更多創(chuàng)新性成果落地轉(zhuǎn)化,推動相關(guān)產(chǎn)業(yè)技術(shù)升級。
2025-10-15
2024-11-05
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