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CIF專注材料表面處理技術(shù),為客戶提供專業(yè)清洗、去膠、刻蝕、涂層等方面儀器裝備和應(yīng)用工藝解決方案！
2026-03-09
國際學(xué)術(shù)期刊《Nano Letters》（ACS旗下納米科技期刊《納米快報(bào)》）在線發(fā)表了關(guān)于二維半導(dǎo)體WSe?超低阻p型接觸的突破性研究成果。該研究提出半導(dǎo)體 - 半導(dǎo)體范德華接觸新策略，實(shí)現(xiàn)了WSe?器件高性能p型歐姆接觸，為下一代二維CMOS 集成技術(shù)發(fā)展奠定重要基礎(chǔ)。
等離子清洗機(jī)在光學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用和發(fā)展具有重要意義。光學(xué)器件的制造和維護(hù)過程中，表面污染和不潔凈物質(zhì)可能會導(dǎo)致光學(xué)性能的下降，因此，使用等離子清洗機(jī)進(jìn)行表面處理是一種有效的技術(shù)。
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